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光機設計概念與分析

時間:2019-05-15 02:46:42下載本文作者:會員上傳
簡介:寫寫幫文庫小編為你整理了多篇相關的《光機設計概念與分析》,但愿對你工作學習有幫助,當然你在寫寫幫文庫還可以找到更多《光機設計概念與分析》。

第一篇:光機設計概念與分析

第一章:投影機系統簡介

1-1 光機設計初步認識 1-2 光源在照明系統之行為

1-3 反射罩口徑與焦距之關系

第二章:投影機光學元件的角色與作用

2-1 成像基本概念 2-2 照明系統投射原理 2-3 成像基本概念

2-4 Lens與Panel之關系 2-5 系統F#之計算 2-6 系統設計實例演練

第三章:光機設計分析軟件實例介紹

3-1 Zemax 3-2-1 ASAP 3-2-2 ASAP

第一章:投影機系統簡介 1-1光機設計初步認識

照明系統的設計目的為何?燈源在LCD中有何作用?

現在要說明的是投影機光機之設計的基本概念。在此,我們以一三片式穿透式LCD光機為例。如畫面中所顯示的是一般所使用的三片式LCD所組成之光機系統。整個 LCD projector的作用是因為LCD本身并非自發性的發光元件,所以必須使用一個燈源來提供光源。使其能透過照明系統,有效的照射于LCD面板上,提供LCD面板投影至鏡頭所需要的光源。

首先,我們將照明系統視為一個黑盒子,燈源的發光分布經過投影機系統成像到LCD面板上面。由于燈源本身特性使然,其在空間上之能量部分如圖A中所示,如果將此光源直接照射于液晶面版上面,除了使得光使用效率大打折扣外,也會使的面版上呈現不均勻之能量分布,進而影響了成像質量。所以照明系統設計之目的,就是希望透過設計的技巧,除了提升光源之效率外,并能均勻化液晶面版上之能量,如圖B中所示。

如此一來,可使得LCD成像面上的每個位置都達到均勻效率的分布。透過這樣的設計,可將LCD面板透過鏡頭成像的影像效果達到最佳質量。

1-2光源在照明系統之行為 燈源于反射罩上之行為如何?

為了使設計之照明系統更符合實際之需求,有效而準確的掌握光于照明系統之行為,就成為首要之事,所以首先我們由燈開始,藉由簡單之幾何關系,了解光于反射罩上之行為。如圖1所示,是一2次曲線方程式,我們將曲線上第1焦點定義為f1、第2焦點定義為f2,而曲線頂點與第一焦點距離則定義為f,兩焦點之距離為S。首先由f1發射出一光源達到反射罩P點上,經過反射罩,必定會聚焦于f2上面。在f1、P、f2三點所構成之三角形關系式中,我們定義f1到反射罩的距離為r,P點與f2之距離則定義為r’;光線與光軸的夾角為α。則我們利用此三角關系式可以導出

公式1 :(r')2=r2+s2α)。

如果我們再把兩焦點之距離S與焦距F之間定義為延伸率E,整個r的廣義式子就是畫面中的公式2。所以利用公式2可以廣義的定義任意一個曲線。

舉例來說:如果在f1焦點上,有一個大小固定的光源時,光線會有一個 △f1的變異量,因此在其聚焦點的位置上,就會產生 △f2=E△f1。所以當f1有△f1的變化量時,在f2的聚焦點會有 E△f1的變異量。利用此關系式,當f1有一定的變化量時,就可以很清楚的知道,光經過一個反射罩之后,光與聚焦點處的變化量的大小為何。當S=0時,由公式2可知,R會等于F,為一個圓的表示式。當S=∞時,r可以簡化成,2倍的焦距除以1加上 cos α,如畫面上的公式3,為反射罩一拋物線的表示式。

1-3反射罩口徑與焦距之關系

何謂拋物線的表示式?如何求出反射罩所需之最小口徑及最大口徑半徑?

為了解光源經過反射罩時之行為,由前面我們得到的拋物線表示式:r為2倍的焦距除以1加上cos α,分別模擬以光α=45及α=135,來看其在反射罩上之光線的行為。當α=45度角時,代入拋物線的表示式公式1時,可得r=2(2-√2)f。相同的,當α=135度角(也就負45度時)可得r=2(2 + √2)f。也就是說利用拋物線的表示式,隨時可以求出當α為不同角度時,R與f之間之關系式子。以我們平常所使用HID燈而言,一般的張角是由45度到135度之間,所以利用此公式,進而我們可以計算出反射罩所需之最小口徑及最大口徑半徑。依圖1例子,當α=135度時,光線由135度角出射后,這是其最大張角,因此反射罩必須當R是極大值時才可收到光。所以當R為最大值時,可得

公式一:Rmax= r.cos 45° 公式二:Rmax =(2 √2+2)f。

利用此關系式我們可以重覆的計算出Rmax 與Rmin 之間的關系。由式子1和式子2我們可以導出

公式三:Rmax =(2 √2+2)f、Rmin =(2 √2-2)f。

我們也可由導出的結果中發現,只要是使用拋物杯的反射罩時,當焦距固定時,其最大的口徑半徑就已經可以決定了。而且當f固定時,最小半徑也已經決定了。所以利用這些關系式結果可以決定反射罩之使用效率。

如何求出不同焦距時的所需要的最小的口徑半徑和最大的口徑半徑?

接著,我們將前面的圖以制表方式呈現,畫面中表格的橫軸顯示的是反射罩的焦距Focal Length,縱軸表示的是反射罩的口徑半徑。如畫面中圖形所示,當焦距固定為8mm時,其最小的口徑半徑為6.63,最大的口徑半徑為38.63。我們可由此圖表的例子與實際的反射罩作一比對,將會發現與實際的情況相差并不會太大。藉由此表,我們隨時可以計算出在不同Focal Length焦距時的所需要的最小的口徑半徑和最大的口徑半徑。

第二章:投影機光學元件的角色與作用 2-1成像基本概念

何謂marginal ray與chief ray?其作用為何?

接著要介紹的是每個光學元件在照明系統所扮演的角色為何。在談到照明系統設計之前,首先要跟各位介紹一些基本觀念,以方便各位更熟悉接下來之課程介紹。各位在之前已經學過基本的光學概念,知道透過成像描線法可以求出透鏡的成像位置與高度。只要透過2條光線(主光線與邊緣光線),就可以表達出物體經過一透鏡成像之過程。如畫面中的圖為例,我們先定義其中兩條光線,第一條從物體與光軸的焦點處和透鏡邊緣處所連成的光線為marginal ray,第二條由物的最高點處經過透鏡的stop 中心連成的光線為chief ray。當marginal ray經過透鏡聚焦于光軸上會有一交點,此焦點處就是物體成像之位置。而chief ray為經過透鏡STOP中心之光線,經過透鏡時并不會發生偏折的現象,所以此延伸的chief ray與成像面也會有一交點,此交點處就是物體成像之高度。故利用marginal ray可以定義出當物體經孔徑邊緣之光線與光軸之焦點,就是物體成像之位置。同理,利用chief ray則可定義出物體成像之高度。另外,由物點發出的光線是由無數之光線所構成,因此一物體可有無限多組marginal ray及chief ray。本例取一般常見之定義作為介紹。

2-2照明系統投射原理

在光學系統中各個元件之間有何種的比例關系?

我們現在要介紹的是整個光學系統的內部部分,首先看到畫面中的圖1的光學系統可分為Reflector、Lens Array、PS Converter以及兩組透鏡(Condenser1 & Condenser2),在初始設計時,這些元件在照明系統中到底該扮演何種角色,該如何安排,它們之間有何種的比例關系。首先我們先定義反射罩的最大口徑為R,其焦距定義為F,Source的arc長度為d、Lens Array的大小為A,而兩個之間的距離為fA,后方兩組透鏡的距離為fB,LCD的寬度為W。以圖2所示:一般而言,source光源經過Lens 1會聚焦于Lens 2。由之前所提到的光學概念可知,藍色出射的線即為marginal ray。當source光源經過Lens 1聚焦于Lens 2,在Lens 2會有一個source 的image成像。由于Lens 2是放置于source 的image的成像位置上,所以光線并不會發生任何偏折,而會繼續擴散。所以從這些過程中可知照明系統可分為兩部分:

第一,當光源經過Lens 1成像于Lens 2后會投射于LCD的面板上。

第二,如果被照物體位置于Lens 1時,由圖2可知,由Lens 1本身構成之光源來看(即畫面中之藍色、紅色和綠色光線),可以知道物體經過Lens 2的成像會位于LCD的面板上。而畫面中圖1也可視為類似圖2的發光過程,發光源經過反射罩后,透過Lens Array 聚焦LCD的面板上。

整個照明系統的設計概念就是,發光源經過反射罩透過Lens Array會聚焦于PS Converter上。而圖2中之Lens 1的角色就相當于Lens Array,Lens 2的角色就相當于PS Converter,所以燈經過Lens Array聚焦后,再透過Lens 2后會入射于LCD的面板上

2-3成像基本概念 2

如何求出光線經過透鏡聚焦于成像面位置上的高度?

現在要介紹的是有關照明系統設計的公式,首先我們看到畫面中的圖1中有一道平行光經過透鏡后會聚焦于焦點處,焦點至透鏡邊緣的距離稱為后焦,如果物體的發光角度為U角時,經過透鏡成像于V處,其聚光角度為U’,透過計算可得

公式一: u'= u + y?(?=?/f),其中的? 定義為 1/焦距。

另外,假設已知一個平行光入射至透鏡的高度為y1,經過折射后聚焦于X處,那么如何求出折射高度y2呢?我們就可以利用 公式二:

y2 = y1-xv

此計算方式,可以很快的找出光線在經過透鏡聚焦之后任何一個成像面位置上的高度y2的值。畫面中的圖2要說明的是兩透鏡的組合焦距,如果第一個透鏡的有效焦距為F1,第二個透鏡的有效焦距為F2,則可定義出。同理,后焦(bfl)的表示值也是如此,利用這些公式將有助照明系統的設計。

2-4 Lens與Panel之關系

Lens Array的大小與LCD的寬度有何關系?

現在要說照明系統中光在反射罩中經過Lens Array聚焦行為的關系式。在圖1中d燈經過反射罩,理想為平行光時,經過Lens Array后會聚焦于Lens2,通常Lens Array的距離為FA,而Lens A和 Lens B是有相同焦距的透鏡組,所以只需將Lens 放置于 Lens A聚焦處即可。我們參考圖2來說明其過程,當source光源經過Lens 1聚焦于Lens 2。透過三角關系式,可找出A/ fA =d/f,并可導出A /d=fA /f,這是我們得到的第一個關系式。在畫面中的圖3是有一束平行光經過Lens A聚焦于Lens B后的成像情形。由圖4來看,可知在Lens2的兩邊是相似三角形。假設圖3的Panel寬度為W,Lens1的大小為A,Lens1和 Lens2兩透鏡間的距離為fA和X,那么W和A之間的有何關系呢?

照明系統中的Lens Array的大小如何決定?

由前面的定義可計算出此兩個透鏡的焦距f1與焦距f2,此兩個透鏡的組合焦距可以用表示出來。透過此公式我們可以找出W和A之間的關系為

這是我們得到的第二個關系式。整個Panel和Lens Array的關系可由此關系式來表達。

照明系統中的LCD的寬度如何決定?

當x=f2時,表示Lens1與PS Converter B非常接近時(即X≒f2),上式就可以簡化成 2-5系統F#之計算

如何計算光學系統中的F#值?

從前面這兩個組合公式A 和W 以及系統F#,(F#的定義是焦距除以孔徑),由以上這3個公式可以得到(F# = W fA / AR =const)。F#值等于Panel的大小乗以反射罩的焦距除以反射罩的孔徑再乘上燈源d的長度(F#=Wf/Rd)。再代入反射罩之最小及最大半徑公式

Rmax =(2 √2+2)f

就可以得到值。

這個最后所求出的公式表示的是一個光學系統的F#值,F#值其實只跟Panel的大小和source的d有關,至于其他的式子只是相互依靠其值是不能改變的。所以當你在設計照明系統時,如你已決定LCD的Panel size時和燈時,那么也就等于決定了F#值,F#的值就無法改變了。

如何決定適合光學系統中的F number值及兩透鏡之間的距離?

如果.W=25.4、.d=1 mm時,代入F# = W/(9.687×d)公式時,可以求出此照明系統所適合的F#值為=2.62207,以及透鏡之間的距離f2為178.54778。再者,根據2*Rmax = 24√2,你可以改變你的F#值,如果將F#改為f3時,將會發現f2的值會變為2 Rmax 乘上F#。因此f2的值也會由原來的178.54778變為203.64675。再由前面Rmax =(2√2+2)f公式,就可以計算出f等于7.02944。所以當你在設計照明系統時,透過這些公式可以幫助你決定適合光學系統中的F#值及F2。

2-6系統設計實例演練

Lens AB的切割數和焦距如何決定?

再來要說明的是LensAB切割數如何決定,一般而言,你可以視系統的需求決定LensAB的切割數。通常LensAB的每個cell比例會依照panel的比例來切割,一般panel的設計比例為4:3。如果我們在一個正圓的反射罩上,切割成許多的Array時,其也應是4:3的比例。以畫面中的例子而言,每個cell設計成8mm×6mm時,其A的大小對角線為10,當A和f2已知時,我們就可以計算出 fA的焦距了。

總結來說,當你已決定了Panel size和燈的d大小時,就可以透過以上這些公式計算出f2的大小和LensAB的焦距。

第三章:光機設計分析軟件實例介紹 3-1Zemax Zemax簡介

ZEMAX 是一套綜合性的光學設計軟件。它將實際光學系統的設計概念、優化、分析、公差及文件整合在一起。ZEMAX 10.0新版中,包含有 lens design、stray light,illumination,fiber coupling,并且可以搭配CAD軟件作轉換,是全功能的光學系統設計分析軟件。

ZEMAX的應用范圍包括:傳統相機、數位相機鏡頭、觀景窗…設計;DVD、VCD讀寫頭、投影顯示器、照明系統、干涉儀、LED、Laser diode…等。

如何利用Zemax軟件找出你所需要的焦距距離?

接下來要介紹的是Zemax優化的部分,如畫面中所顯示,如果我們要設計出一個已知其焦距為fA、材料為BK7,孔徑大小為10mm的 LensA,我們就可以透過Zemax軟件找出你所需要的焦距距離。首先在此軟件中輸入孔徑大小10mm,并設定主要光線紅、藍、綠的波長,另外也可以使用此軟件的Default Merit Function,將曲率設定為變量,這樣就能很快的優化到LensA,找到當R1=42.424827,厚度為5,它可以聚焦到80.17857,也就是你所需要的焦距。所以透過Zemax設計軟件可以很快的計算出LensA在不同曲率時所要的Focus Lens距離。

如何利用Zemax軟件計算出不同曲率的優化成像位置?

同樣的方法,如果已知透鏡的焦距為203.646750,就可以很快的計算出當LensB聚焦點會位于203.646750處,其焦距值為多少。所以透過Zemax軟件,可以很快計算出當透鏡不同曲率直接優化所需成像的位置。

如何利用Zemax軟件優化?

現在畫面中所顯示是我們設計后的結果,LensAB經過系統入射于Lans2之后變成平行光,會在不同位置投射于panel上,由于實際的反射罩并非完美的平行光,因此我們還必需考慮到當光源正負角度入射情形的成像表現。所以透過前面所說的簡單計算公式并搭配Zemax軟件就可以很快設計出理想的照明系統。3-2ASAP ASAP簡介

接下來要介紹的是另一套光學分析軟件ASAP。ASAP原名為Advanced System Analysis Program,是美國BRO(Breault Research Organization)公司研發的一套專業光學模擬軟件,它可以幫助使用者模擬真實之光學系統,以達到最實際之光學分析結果。

ASAP 可以獨立使用,或與其他己構設計成透鏡設計軟件相結合,來建立3D光學系統模型。無論是燈泡,弧光燈,LED或是雷射光源,均可以輕松的建立。光源可置于幾何模型中的任何位置,無論是在介質內外或是在空氣中。ASAP 能讓使用者觀察到光能量在經過系統而產生反射,透射,吸收,繞射或散射等作用后之變化狀況。

ASAP光學模擬軟件有何特色、功用?

畫面中所顯示的是把之前所我們建立的公用系統放入至ASAP光學分析軟件中模擬光源經過影像系統的成像圖。由于實際的光源并非完美的點光源,所以必須搭配一套光學系統模擬軟件,模擬實際光源經過影像系統的成像情形。使用ASAP就是因為Zemax這套軟件在之前的版本無法模擬真實HID燈的成像表現。將光源資料放在ASAP軟件中模擬時,需要注意什么?

畫面中顯示的是HID燈圖。左圖是HID燈的進場表現,右圖是HID燈的原廠分布。

我們可以將廠商所給予的光源資料放在ASAP軟件中建立一個與其相似的發光源。

因為光源資料準確模擬的結果才會準確。所以當你在使用ASAP軟件時,一定要建立正確的發光源才能得到正確的結果。

利用ASAP軟件或廠商資料兩者所做出來的相似的發光源圖有何差異

現在畫面中所顯示的圖是我們利用ASAP軟件所做出來的相似的發光源圖,你可以和上一頁中廠商所給予的資料作出來的圖相互比較一下。

接下來要利用ASAP軟件模擬PS Converter,由于PS Converter需考慮到偏光轉換的問題,畫面中右圖中顯示的是一道X光,經過PS Converter 45度反射之后,仍然為一個X偏折光的狀態,實際上,以這套ASAP系統來說,X光入射之后遇到45度斜面反射之后出來還是X光。而左圖中的P光則會經過系統之后繼續穿透。所以在PS Converter后加一個Retarder將其作偏光轉換。其整個系統表現如畫面中所示。

入射光在不同角度入射時,其穿透率與反射率有關系?

畫面中的圖提示我們需注意兩件事,一般的光學元件表現主要在于波長和角度,因為每個元件的 coating面對于P光、X光在不同的波長時的表現均會不一樣。畫面中的例子主要是說明在ASAP里面,其實也可以建立一個光隨著不同波長時其穿透率與反射率之間的表現形式。同樣的,入射光在不同角度入射時,其穿透率與反射率也會有所不同的表現。畫面中右圖是ASAP模擬的結果,必須要把實際的光源在不同波長的穿透率與反射率表現出來,以及光在不同角度上穿透率的表現,實際的鍵入最后的模擬值才會比較準確。

ASAP所模擬光源在每個元件的成像表現如何? B 現在來看看我們實際模擬出來的結果,圖中顯示光在Lens Array、PS Converter、Lens2、及LCD Panel上的成像情形。利用這樣的分析方式,可以實際得到光源在每個元件的成像模擬情形,進而掌握成像的發光行為。

13點照度值的功用為何?

最后以畫面中的實例來說,可以比較一下光在成像面上的均勻度表現。按照ASAP量測標準我們可以在軟件上面實際的檢測,如右圖中13點的照度值。由此13點照度值,可以幫助我們很快的判斷出成像系統的設計是否有達到物體均勻化的目的。

如何在ASAP中檢測光在Panel上的入射角度?

最后還要在ASAP中檢測光在Panel上的入射角度。以前面所提到的例子再次做說明,在畫面中的圖可以看出,如果設計一個F number 3(F/)的系統,其入射角度大約只有10度左右,這是符合我們的設計需求。

照明系統設計時有哪些步驟?

現在將整個照明系統的設計步驟與流程,做個整理說明。首先在照明系統中我們會知道panel size 的大小與arc的長短,由廠商的資料也可以知道reflector size為多少,而lensAB aperature則是由設計者自己決定。當設計者將這些數值代入算式中,可以很清楚的計算出 F#值。如果覺得F#值并不適合,你也可以更改F#。不過要注意的是,當F#改變時,整個物體系統的距離也會隨之而改變。透過本章所敘述的計算式子,可以很快的計算出所需要的F2以及 fA。最后將計算式所得到的數值放入光機設計軟件Zemax中作最佳化設計。

第二篇:算法設計與分析書中概念總結

6遞推步驟

7算法描述(盒圖 PAD圖之類的老師說看看但我不懂怎么考)

1.算法的基本性質

(1)目的性:算法有明確的目的,算法能夠完成賦予它的功能。

(2)分步性:算法為完成其復雜的功能,由一系列計算機可執行的步驟組成。

(3)有序性:算法的步驟是有序的,不可能隨意改變算法步驟的執行順序。

(4)有限性:算法是有限的指令順序,算法所包含的步驟是有限的。

(5)操作性:有意義的算法總是對某些對象進行操作,使其改變狀態完成其功能。

2.算法的考量

對于算法的分析和評估,一般考慮正確性、可維護性、可讀性、運算量、占用存儲空間等方面考慮。三條主要標準:

(1)算法實現所耗費的時間。

(2)算法實現所耗費的空間,其中主要考慮輔助存儲空間。

(3)算法易于理解、易于編碼、易于調試。

3.什么是迭代

迭代法也稱“輾轉法”,是一種不斷用變量的舊值遞推出新值的解決問題的方法。

4.分治法求解的過程

分治法求解問題的過程是,將整個問題分解成若干個小問題后分而治之。如果分解得到的子問題相對來說還太大,則可反復使用分治策略將這些子問題分成更小的同類型子問題,直至產生方便求解的子問題,必要時逐步合并這些子問題的解,從而得到問題的解。

(1)分解:將原問題分解為若干個規模較小,相互獨立,與原問題形式相同的子問

題。

(2)解決:若子問題規模較小而容易被解決則直接解決,否則繼續分解為更小的子

問題,直至容易解決。

(3)合并:將已求解的各個子問題的解,逐步合并為原問題的解。

5.動態規劃策略

基本思想:把求解問題分成許多階段或多個子問題,然后按順序求解各個子問題。基本步驟:

(1)劃分階段:按照問題的時間或空間特征,把問題分為若干個階段。注意,著

若干個階段一定要是有序的或者可排序的。

(2)選擇狀態:將問題發展到各個階段時所出現的各個客觀情況用不同的狀態表

示出來。當然,狀態的選擇要滿足無后效性。

(3)確定決策并寫出狀態轉移方程:狀態轉移就是根據上一階段的狀態和決策來

導出本階段的狀態。這就像是“遞推”,根據相鄰兩個階段的狀態之間的關系來確定決策方法和狀態轉移方程。

6.遞推

第三篇:規劃設計分析與概念設計管理辦法

規劃設計分析與概念設計管理辦法目的為適應公司業務規模發展,在投資階段導入規劃設計分析,對項目可行性充分論證,利于控制經營風險;規范對概念性方案的論證,提升公司產品競爭力。范圍

適用于公司全資擁有、控股或相對控股的房地產項目。方法和過程控制

3.1 “定位”釋義

3.1.1 本管理辦法包含“規劃設計分析”與“概念性方案管理”二部分。

3.1.2 “規劃設計分析”是在投資、策劃階段,對項目的開發強度、規劃設計可行性進行分析,提出假想方案以支撐項目的財務分析和項目產品策劃。

3.1.3 “概念性方案管理”以《項目策劃報告》中的產品定位內容、成本控制目標、設計任務書為基礎,指導參加競標單位進行設計,由公司方案評審委員會評選出中標方案后,進一步深化修改,成果由中標概念性方案及《后續設計落實控制要點》體現。

3.2 投資策劃階段規劃設計分析

3.2.1 根據《項目策劃報告編寫指引》完成設計必需基礎資料的收集、整理工作

3.2.2 規劃設計外部協作條件的取證要求

在項目策劃及概念性方案設計各階段,設計管理部除了與設計單位密切配合外,有很多方面需要及時與項目所在地方政府、主管部門或國家機關等相關部門、機構取得聯系,進行溝通、協調,并取得相關數據及有關方面的協議或批文,并作為各階段設計的依據和條件提供給設計單位,這些條件稱為規劃設計的外部協作條件。

一般相關的部門有:計委、國土、建委、規劃局、工商統計局、銀行、文教、環保、衛生、水、電、電信、煤氣、熱力、市政、消防、人防、安全保衛部門等。

3.2.3 項目場地地質勘察

項目場地地質勘察應根據項目策劃、概念性方案設計不同階段的要求分階段進行。

在新項目選擇、可行性分析階段,設計管理部、項目部應負責進行可行性研究勘察(選址勘察),目的是對地塊場地的地質穩定性和建筑適宜性做出評價,主要手段是搜集地塊有關的地質資料和建筑經驗資料、踏勘了解場地工程地質條件;當擬建場地工程地質條件復雜,已有資料不能滿足要求時,可根據具體情況進行工程地質測繪和必要的勘探工作。

在項目策劃階段應進行場地初步勘察,為確定建筑總平面布置、主要建筑物地基基礎設計方案提供巖土工程勘察資料,初步勘察應符合初步設計的要求。

3.2.4 設計條件論證

在項目投資決策、項目策劃工作完成后,策劃小組應匯總收集的設計基礎資料、產品策劃報告以及成本控制表,進行全面的綜合分析,論證是否具備開展項目概念性設計工作的條件。在概念性設計開始之前,策劃小組應進行客戶細分、競爭產品研究;負責編制《項目開發網絡圖》,負責將經審定的項目策劃思想核心轉化為工程語言,形成概念性方案設計任務書,并報公司管理層審批。

3.3概念性方案設計

根據公司采購管理中設計單位的招(議)標程序,設計管理部提出概念設計招(議)標申請以及備選供應商(概念設計單位)名單,采購管理部牽頭組織招標全過程工作。

設計管理部負責編制《概念性方案設計深度要求》、《概念性方案設計任務書》等相關技術資料,匯同成本管理部提出的限額設計要求、營銷管理部提出的產品策劃要求,在《項目策劃報告》基礎上,編制《概念設計委托合同》,相關技術要求、成本控制要求、產品定位要求

等要作為合同附件資料。

設計管理部負責與擬選擇設計單位進行商務談判、簽訂《概念設計委托合同》。設計管理部應向設計方提交完整設計基礎資料。

在設計過程中,設計管理部應加強和設計人員的溝通和訊息聯絡,密切跟蹤設計過程,避免概念方案設計方向的偏離,同時進一步解釋業主委托意見;當設計人員有新穎的創意時,不要立即否定,可以采用整合方式共同研討方案的實施性;對影響產品定位、成本的重大技術問題,設計管理部負責組織相關部門、人員進行專題價值工程分析,確定最優的技術方案;同時,設計管理部應與相關政府主管部門保持適當的溝通、協調關系,及時將設計基礎條件的任何改變通知設計院并研究確定應對策略。

設計方提交概念性方案設計文件之后,設計管理部應對照委托合同檢查設計文件的完整性和設計深度,滿足要求后上報公司進行內部評審。

公司內部評審要根據流程,通過方案評審小組集體決策,審核管理可參見《概念性方案及單體方案設計評估程序》,《概念性方案及單體方案設計簡評表》

概念設計階段的成果體現為《概念性設計方案》及《后續設計落實控制要點》,后者由設計單位與設計管理部共同編制,目的是在后期方案及深化設計中落實概念設計的思想和相關控制指標。附則

4.1 本管理辦法所規范的所有環節及涉及內容均為公司經營機密,任何人不得泄露。

4.2本管理辦法可根據公司發展和行業環境變化需要適時修改。

4.3項目操作過程中,出現本管理辦法不適應情形,可視具體情況由公司相關職能部門商議修訂和執行。

4.4本辦法解釋權歸公司設計管理部

5相關附件

《項目策劃報告》

《項目策劃報告編寫指引》

《后續設計落實控制要點》

《項目開發網絡圖》

《概念性方案設計任務書》

《概念性方案設計深度要求》

《概念設計委托合同》

《后續設計落實控制要點》

《概念性方案及單體方案設計評估程序》

《概念性方案及單體方案設計簡評表》

第四篇:企業文化概念與案例分析

企業文化概念與案例分析

班級:09電子信息工程學號:200905010121 姓名:黃幸偉

企業文化的概念也稱公司文化,是企業在長期實踐中形成的共同理想、基本價值觀、作風、生活習慣和行為規范的總稱,對企業成員和利益相關者有感召力和凝聚力,能把眾多人的興趣、目的、需要以及由此產生的行為統一起來,是企業長期文化建設的反映。

所謂基本的價值觀是有共同的目標,能夠達到相同的共識。記得在2003年,美國攻打伊拉克前夕,為了拉攏西方各國的支出,美國國務卿賴斯就對德國的總理說了一句話,我們是有共同價值觀的人。因此我們可以體會到,擁有相同的基本價值觀是做合作做一件事情的前提。

一個公司的文化,領導者對其影響起到了舉足輕重的地位。領導者的作風還有生活習慣,這些都很好的反應出一個企業文化。公司的規章制度也是企業文化組成的一部分,員工是否遵循公司的制度也反應出公司文化的發展。

諾基亞、西門子、海爾、惠普、豐田、本田,這些企業的成功,便很好的說明了,企業文化是公司的靈魂支柱。諾基亞在蘇聯解體后失去東歐市場的所有份額,曾經找過索尼公司收購未成,后來任命43歲的市場經理擔任董事長后,便開始創建企業文化,讓所有公司的員工有共同的理想、基本價值觀等等。換來今天占全球手機市場的首席位置。

在我們生活中很多事例可以告訴我們,企業的文化是企業發展和重要部門也是企業的靈魂。

第五篇:DR簡介(X光機)

DR簡介

DR(Digital Radiography),即直接數字化X射線攝影系統,是由電子暗盒、掃描控制器、系統控制器、影像監示器等組成,是直接將X線光子通過電子暗盒轉換為數字化圖像,是一種廣義上的直接數字化X線攝影。而狹義上的直接數字化攝影即DDR(DirectDigit Radiography),通常指采用平板探測器的影像直接轉換技術的數字放射攝影,是真正意義上的直接數字化X射線攝影系統。

DR與CR的共同點都是將X線影像信息轉化為數字影像信息,其曝光寬容度相對于普通的增感屏-膠片系統體現出某些優勢:CR和DR由于采用數字技術,動態范圍廣,都有很寬的曝光寬容度,因而允許照相中的技術誤差,即使在一些曝光條件難以掌握的部位,也能獲得很好的圖像;CR和DR可以根據臨床需要進行各種圖像后處理,如各種圖像濾波,窗寬窗位調節、放大漫游、圖像拼接以及距離、面積、密度測量等豐富的功能,為影像診斷中的細節觀察、前后對比、定量分析提供技術支持。對兩者的性能比較如下:1.成像原理:DR是一種X線直接轉換技術,它利用硒作為X線檢測器,成像環節少;CR是一種X線間接轉換技術,它利用圖像板作為X線檢測器,成像環節相對于DR較多。2.圖像分辨率:DR系統無光學散射而引起的圖像模糊,其清晰度主要由像素尺寸大小決定;CR系統由于自身的結構,在受到X線照射時,圖像板中的磷粒子使X線存在著散射,引起潛像模糊;在判讀潛像過程中,激光掃描儀的激發光在穿過圖像板的深部時產生著散射,沿著路徑形成受激熒光,使圖像模糊,降低了圖像分辨率,因此當前CR系統的不足之處主要為時間分辨率較差,不能滿足動態器官和結構的顯示。3.DR是今后的發展方向,但就目前而言,DR電子暗盒的結構14 in×17 in(1 in=2.54 cm)由4塊⒎5 in ×8 in 所組成,每塊的接縫處由于工藝的限制不能做得沒縫,且一旦其中一塊損壞必將導致4塊全部更換,不但費用昂貴,還需改裝已有的X線機設備,而CR相對費用較低,且多臺X線機可同時使用,無需改變現有設備。4.CR系統更適用于X線平片攝影,其非專用機型可和多臺常規X線攝影機匹配使用,且更適用于復雜部位和體位的X線攝影;DR系統則較適用于透視與點片攝影及各種造影檢查,由于單機工作時的通量限制,不易取代大型醫院中多機同時工作的常規X線攝影設備,但較適用于小醫療單位和診所的一機多用目的。事實上,CR和DR系統在相當長的一段時間內將是一對并行發展的系統。數字X線機是計算機數字圖像處理技術與X射線放射技術相結合而形成的一種先進的X線機。在原有的診斷X線機直接膠片成像的基礎上,通過A/D轉換和D/A轉換,進行實時圖像數字處理,進而使圖像實現了數字化。它的出現打破了傳統X線機的觀念,實現了人們夢寐以求的模擬X線圖像向數字化X線圖像的轉變。

特點:

第一,它最突出的優點是分辯率高,圖像清晰、細膩,醫生可根據需要進行諸如數字減影等多種圖像后處理,以期獲得理想的診斷效果。

第二,該設備在透視狀態下,可實時顯示數字圖像,醫生再根據患者病癥的狀況進行數字攝影,然后通過一系列影像后處理如邊緣增強、放大、黑白翻轉、圖像平滑等功能,可從中提取出豐富可靠的臨床診斷信息,尤其對早期病灶的發現可提供良好的診斷條件。

第三,數字化X線機形成的數字化圖像比傳統膠片成像所需的X射線計量要少,因而它能用較低的X線劑量得到高清晰的圖像,同時也使病人減少了受X射線輻射的危害。

第四,由于它改變了已往傳統的膠片攝影方法,可使醫院放射線科取消原來的圖像管理方式和省去片庫房,而可采用計算機無片化檔案管理方法取而代之,可節省大量的資金和場地,極大地提高工作效率。此外,由于數字化X線圖像的出現,結束了X線圖像不能進入醫院PACS系統的歷史,為醫院進行遠程專家會診和網上交流提供了極大的便利。另外,該設備還可進行多幅圖像顯示,進行圖像比較,以利于醫生準確判別、診斷。通過圖像滾動回放功能,還可為醫生回憶整個透視檢查過程。

數字化X線的臨床應用

數字化的圖像質量與所含的影像信息量可與傳統的X線成像相媲美。圖像處理系統可調節對比。故能達到最佳的視覺效果;攝照條件的寬容范圍較大;患者接受的X線量減少。圖像信息可由磁盤或光盤儲存,并進行傳輸,這些都是數字化圖像的優點。

數字化圖像與傳統X線圖像都是所攝部位總體的重迭影像,因此,傳統X線能攝照的部位也都可以用DR成像,而且對DR圖像的觀察與分析也與傳統X線相同。所不同的是DR圖像是由一定數目的象素所組成。

數字化圖像對骨結構、關結軟骨及軟組織的顯示優于傳統的X線成像,還可行礦物鹽含量的定量分析。數字化圖像易于顯示縱隔結構如血管和氣管。對結節性病變的檢出率高于傳統的X線成像,但顯示肺間質與肺泡病變則不及傳統的X線圖像。DR在觀察腸管積氣、氣腹和結石等含鈣病變優于傳統X線圖像。

用數字化圖像行體層成像優于X線體層攝影。胃腸雙對比造影在顯示胃小區、微小病變和腸粘膜皺襞上,數字化圖像優于傳統的X線造影。

DR是一種新的成像技術,在不少方面優于傳統的X線成像,但從效益-價格比,尚難于替換傳統的X線成像。在臨床應用上,DR不像CT與MRI那樣不可代替。

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