第一篇：半導(dǎo)體工藝實(shí)習(xí)個(gè)人總結(jié)

半導(dǎo)體工藝實(shí)習(xí)個(gè)人總結(jié)

幾天的工藝實(shí)習(xí)已經(jīng)結(jié)束了。我想，作為一個(gè)獨(dú)立的一員，我們要學(xué)會(huì)的遠(yuǎn)不是對(duì)儀器的操作，而是對(duì)工藝?yán)碚摳由钊氲亓私狻ｋm然無(wú)法實(shí)質(zhì)性地看到書(shū)本上所向我們展示的神奇的微觀世界，但是對(duì)這個(gè)領(lǐng)域近距離的接觸依然足以讓我們更好地理解一步步工藝流程、注意事項(xiàng)及其原因，印象也很深刻。而作為一個(gè)合作組中一個(gè)不可或缺的工作環(huán)節(jié)的操作人員，已是大三的我們并不存在合作的問(wèn)題，然而通過(guò)如此明確的分工、依靠集體的力量去獲得一個(gè)成品，卻是從未有過(guò)的經(jīng)歷，這要我們一步步的銜接，一點(diǎn)點(diǎn)的前進(jìn)。

我在這次工藝實(shí)習(xí)過(guò)程中擔(dān)任蒸發(fā)這一工作環(huán)節(jié)。其實(shí)從很大程度上來(lái)說(shuō)，這個(gè)環(huán)節(jié)的任務(wù)并不繁重，只需要做一次，不必像做清晰、光刻、擴(kuò)散的同學(xué)一樣來(lái)回做幾次。盡管對(duì)其他工藝有所了解，但對(duì)于我來(lái)說(shuō)，沒(méi)有實(shí)際操作可能沒(méi)有別的同學(xué)體會(huì)深刻。帶我做蒸發(fā)實(shí)習(xí)是一位研三的學(xué)長(zhǎng)，做的時(shí)候溫度、指示計(jì)及操作步驟都是完全設(shè)計(jì)好的，我想這應(yīng)該是通過(guò)數(shù)次實(shí)驗(yàn)得出的一個(gè)最佳指標(biāo)。在蒸發(fā)初時(shí)漫長(zhǎng)的升溫等待中，學(xué)長(zhǎng)又和我講了一些后續(xù)操作的相關(guān)注意事項(xiàng)（比如控制鋁絲融化的時(shí)間，鎢絲上不再有熔融態(tài)的“鋁球”再進(jìn)行下一步操作等），包括學(xué)長(zhǎng)以前和老師關(guān)于儀器原理的討論，都對(duì)我有很大的幫助。

蒸完后，我當(dāng)時(shí)覺(jué)得效果還是很不錯(cuò)的。后來(lái)從光刻的同學(xué)那里知道，鋁蒸厚了，腐蝕了很久也沒(méi)有刻出來(lái)。其實(shí)我覺(jué)得我還是很認(rèn)真的按照要求去做的，造成鋁蒸厚的原因我個(gè)人分析有兩個(gè)，一個(gè)是我在數(shù)鋁絲融化控制的秒數(shù)時(shí)可能數(shù)的慢了些，另一個(gè)可能是等待鋁絲完全汽化的時(shí)間過(guò)長(zhǎng)。這兩者都會(huì)造成鋁原子在片子表面過(guò)度堆積。

總之，這三天的工藝實(shí)習(xí)已經(jīng)過(guò)去了，我們學(xué)到了很多，體會(huì)到了很多。雖然最后的結(jié)果不是那么理想（沒(méi)有出三極管的特性），但對(duì)于我們來(lái)說(shuō)，收獲的最重要的是過(guò)程。一個(gè)好的成品永遠(yuǎn)是建立在完善的工藝流程上的。

09023213王瑩2011.11.08

第二篇：半導(dǎo)體工藝實(shí)習(xí)心得體會(huì)

半導(dǎo)體工藝實(shí)習(xí)心得體會(huì)

12023110 王寧

這是我們第一次參加工藝實(shí)習(xí)，這讓我不免有些好奇和激動(dòng)。

記得大一新生研討課的時(shí)候參觀過(guò)我們的工藝實(shí)習(xí)間，這次又來(lái)，故并沒(méi)有感到這個(gè)工藝間很陌生。說(shuō)實(shí)在的，就在進(jìn)入工藝間并換好行頭后，自己真的有種要兢兢業(yè)業(yè)干一番事業(yè)的感覺(jué)了，但在之后的對(duì)準(zhǔn)練習(xí)這個(gè)環(huán)節(jié)，我深深的懷疑了自己的能力。

由于組內(nèi)男生較多，所以很多體力活他們都主動(dòng)承擔(dān)了，特別感謝他們。組長(zhǎng)主動(dòng)擔(dān)任起最危險(xiǎn)的煮王水的這一道工藝，細(xì)心的李軍和魏行則進(jìn)入光刻間進(jìn)行光刻和甩膠的任務(wù)。記得我第一次嘗試光刻對(duì)準(zhǔn)這道工序的時(shí)候，對(duì)的一點(diǎn)都不準(zhǔn)，之后對(duì)照著老師對(duì)準(zhǔn)的模版，才把握住這道工藝的要領(lǐng)，笨鳥(niǎo)就要多練習(xí)，漸漸的我在練習(xí)中也增長(zhǎng)了經(jīng)驗(yàn)。

甩膠這一步，首先是自己不能緊張，手越抖，膠就越不能滴準(zhǔn)到吸盤(pán)的正中心，也就甩不均勻。而且一定要心細(xì)，時(shí)刻注意保護(hù)光刻膠，不能讓它曝光。接著就是擴(kuò)散的工藝，因?yàn)榧訜嵩O(shè)備溫度能達(dá)到上千度，爐口的溫度也很高，所以在送、取硅片的時(shí)候都要在高溫下保持住平穩(wěn)，這樣硅片才能正正的放進(jìn)爐中。

工藝實(shí)習(xí)雖然很短暫，但就在這么短暫的兩天的時(shí)間里，真的要比在課堂上聽(tīng)兩天的課學(xué)到的多。

第三篇：半導(dǎo)體工藝教案第八章

第九章 摻雜

【教學(xué)內(nèi)容及教學(xué)過(guò)程】 8.1 引言

8.1.1 刻蝕的概念

刻蝕（Etching）是把進(jìn)行光刻前所淀積的薄膜（厚度約在數(shù)百到數(shù)十納米）中沒(méi)有被光刻膠覆蓋和保護(hù)的部分，用化學(xué)或物理的方式去除，以完成轉(zhuǎn)移掩膜圖形到薄膜上面的目的，如圖8?1所示。

圖 8-1 刻蝕圖形轉(zhuǎn)移示意圖

1)濕法刻蝕是利用合適的化學(xué)試劑將未被光刻膠保護(hù)的晶圓部分分解，然后形成可溶性的化合物以達(dá)到去除的目的。

2)干法刻蝕是利用輝光(Glow Discharge)的方法產(chǎn)生帶電離子以及具有高濃度化學(xué)活性的中性原子和自由基，這些粒子和晶圓進(jìn)行反應(yīng)，從而將光刻圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。8.1.2 刻蝕的要求 1.圖形轉(zhuǎn)換的保真度高 2.選擇比 3.均勻性 4.刻蝕的清潔 8.2 刻蝕工藝 8.2.1 濕法刻蝕

最早的刻蝕技術(shù)是利用溶液與薄膜間所進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)，來(lái)去除薄膜未被光刻膠覆蓋的部分，從而達(dá)到刻蝕的目的。這種刻蝕方式就是濕法刻蝕技術(shù)。濕法刻蝕又稱(chēng)濕化學(xué)腐蝕，其腐蝕過(guò)程與一般化學(xué)反應(yīng)相似。由于是腐蝕樣品上沒(méi)有光刻膠覆蓋部分，因此，理想的腐蝕應(yīng)當(dāng)是對(duì)光刻膠不發(fā)生腐蝕或腐蝕速率很慢。刻蝕不同材料所選取的腐蝕液是不同的。1)濕法刻蝕的反應(yīng)生成物必須是氣體或能溶于刻蝕劑的物質(zhì)，否則會(huì)造成反應(yīng)生成物沉淀，從而影響刻蝕正常進(jìn)行。

2)濕法刻蝕是各向異性的，刻蝕中腐蝕液不但浸入到縱向方向，而且也在側(cè)向進(jìn)行腐蝕。3)濕法刻蝕過(guò)程伴有放熱和放氣過(guò)程。1)反應(yīng)物擴(kuò)散到被刻蝕材料的表面。2)反應(yīng)物與被刻蝕材料反應(yīng)。

3)反應(yīng)后的產(chǎn)物離開(kāi)刻蝕表面擴(kuò)散到溶液中，隨溶液被排除。8.2.2 干法刻蝕

干法刻蝕是以等離子體來(lái)進(jìn)行薄膜刻蝕的一種技術(shù)。在干法刻蝕過(guò)程中，不涉及溶液，所以稱(chēng)為干法刻蝕。

1)物理刻蝕是利用輝光放電將氣體(比如氬氣)解離成帶正電的離子，再利用偏壓將帶正電的離子加速，轟擊在被刻蝕薄膜的表面，從而將被刻蝕物質(zhì)的原子轟擊出去。2)化學(xué)刻蝕又叫做等離子刻蝕，它與物理刻蝕完全不同，它是利用等離子體，將反應(yīng)氣體解離，然后借助離子與薄膜之間的化學(xué)反應(yīng)，把裸露在等離子體中的薄膜，反應(yīng)生成揮發(fā)性的物質(zhì)而被真空系統(tǒng)抽離。1.等離子體的概念 2.等離子體的產(chǎn)生方式

(1)氣體放電法 通常把在電場(chǎng)作用下，氣體被擊穿而導(dǎo)電的現(xiàn)象稱(chēng)為氣體放電。

(2)射線輻照法 射線輻照法是利用各種射線或粒子束輻照，使得氣體電離而產(chǎn)生等離子體。8.2.3 兩種刻蝕方法的比較

濕法刻蝕是在水溶液下進(jìn)行的，所以刻蝕速度較快，同時(shí)選擇度較高，但刻蝕時(shí)是各向同性腐蝕，也就是說(shuō)，除了在縱向進(jìn)行腐蝕以外，在橫向上也會(huì)有腐蝕，這樣就造成圖形轉(zhuǎn)換時(shí)保真度較低，因此，濕法刻蝕不能滿足超大規(guī)模集成電路制造的要求。

圖8-2 干法刻蝕與濕法刻蝕效果的比較 8.3 干法刻蝕的應(yīng)用 8.3.1 介質(zhì)膜的刻蝕

集成電路工藝中所廣泛用到的介質(zhì)膜主要是SiO2膜及Si3N4膜。1.二氧化硅的干法刻蝕

圖8-3 HWP結(jié)構(gòu)圖 8.3 干法刻蝕的應(yīng)用

圖8-4 等離子體擴(kuò)散腔外圍磁場(chǎng)(1)氧的作用 在CF4中加入氧后，氧會(huì)和CF4反應(yīng)釋放出F原子，因而增加F原子的含量，則增加了Si與SiO2的刻蝕速率，并消耗掉部分C，使得等離子體中碳與氟的比例下降。

圖8-5 所占百分比與Si和Si的 刻蝕速率的關(guān)系

(2)氫的作用

圖8-6 所占百分比與Si和Si刻速率的關(guān)系

(3)反應(yīng)氣體 在目前的半導(dǎo)體刻蝕制備中，大多數(shù)的干法刻蝕都采用CHF3與氯氣所混合的等離子體來(lái)進(jìn)行SiO2的刻蝕。2.氮化硅(Si3N4)的干法刻蝕

圖8-7 圓筒形結(jié)構(gòu)示意圖 8.3.2 多晶硅膜的刻蝕

在MOS器件中，柵極部分起著核心的作用，因此柵極的寬度需要嚴(yán)格控制，因?yàn)樗砹薓OS器件的溝道長(zhǎng)度，從而與MOS器件的特性息息相關(guān)。因此，多晶硅的刻蝕必須嚴(yán)格地將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到多晶硅薄膜上。此外，刻蝕后的輪廓也很重要，如柵極多晶硅刻蝕后側(cè)壁有傾斜時(shí)，將會(huì)遮蔽源極和漏極的離子分布，造成雜質(zhì)分布不均勻，通道的長(zhǎng)度將隨傾斜程度的不同而改變。同時(shí)，刻蝕時(shí)要求Si對(duì)SiO2的選擇性要高，如果多晶硅覆蓋在很薄（小于20nm）的柵極氧化層上，如果氧化層被穿透，氧化層下面的源—漏極間的Si將很快被刻蝕。因此，若采用CF4、CF6等氟離子為主的等離子體來(lái)刻蝕多晶硅，則不太合適，較低的選擇比會(huì)對(duì)器件造成損壞。

除此之外，此類(lèi)氣體還具有負(fù)載效應(yīng)，負(fù)載效應(yīng)是指當(dāng)被刻蝕的材料裸露在等離子體中的面積較大的刻蝕速率比面積小的慢，也就是局部腐蝕速率不均勻。8.3.3 金屬的干法刻蝕

金屬鋁是目前半導(dǎo)體器件及集成電路制造中應(yīng)用最多的導(dǎo)電材料。因?yàn)殇X的導(dǎo)電性能良好，價(jià)格低廉，而且鋁膜的淀積和刻蝕都比較方便，所以鋁電極幾乎占了所有半導(dǎo)體器件及集成電路中的導(dǎo)電體。但是，隨著元器件的集成度和工藝的進(jìn)一步提高，采用金屬鋁作為電極引線也遇到了困難。這是由于在高溫下，硅原子和鋁原子容易向彼此間擴(kuò)散，從而產(chǎn)生被稱(chēng)為“尖刺”的現(xiàn)象，導(dǎo)致鋁引線與MOS管接觸不好。此外，當(dāng)鋁線線條寬度設(shè)計(jì)得十分細(xì)小時(shí)，由于“電遷移”現(xiàn)象，引發(fā)鋁原子的移動(dòng)，使得鋁絲斷開(kāi)。因此，后來(lái)，人們采用銅線來(lái)取代鋁線，也有采用鋁?硅?銅合金來(lái)代替金屬鋁。但是，鋁還是目前集成電路和半導(dǎo)體器件中主流的導(dǎo)電引線。1.鋁的刻蝕 2.鋁合金的刻蝕

1)將晶圓以大量的去離子水清洗。2)刻蝕之后，晶圓還在真空中時(shí)以氧氣等離子體將掩膜去除并在鋁合金表面形成氧化層來(lái)保護(hù)鋁合金。

3)在晶圓移出刻蝕腔前，以氟化物的等離子體做表面處理，如CF4、CHF3，將殘留的氯置換成氟，形成AlF3,或在鋁合金表面形成一層聚合物來(lái)隔離鋁合金與氯的接觸。3.鎢的回蝕 4.銅的腐蝕

8.3.4 光刻膠的去除

晶圓表面薄膜材料腐蝕完畢，必須將光刻膠去除掉，這一工序稱(chēng)為去膠。常用的去膠方法有溶劑去膠、氧化去膠和等離子體去膠。下面分別加以闡述。1.溶劑去膠 2.氧化去膠 3.等離子體去膠

圖8-8 等離子體去膠設(shè)備示意圖

1)系統(tǒng)真空度要達(dá)到3×12-2Torr(1Torr=133.322Pa)，然后通入氧氣，并用針型閥門(mén)調(diào)節(jié)流量。2)高頻信號(hào)源的頻率是11~12MHz，輸出功率為150~200W。3)通入氧氣的流量

8.4 干法刻蝕的質(zhì)量控制 分析光學(xué)放射原理

圖8-9 光學(xué)放射頻譜 1.光學(xué)放射頻譜分析 2.激光干涉測(cè)量

圖8-10 激光干涉測(cè)量圖形

1)激光束要聚焦在晶圓的被刻蝕區(qū)，且該區(qū)域的面積應(yīng)足夠大。2)必須對(duì)準(zhǔn)在該區(qū)域上，因而增加了設(shè)備鏡片的設(shè)計(jì)難度。8.4 干法刻蝕的質(zhì)量控制

3)被激光照射的區(qū)域溫度升高而影響刻蝕速率，造成刻蝕速率與不受激光照射區(qū)域的不同。4)如果被刻蝕的表面粗糙不平，則所測(cè)得的信號(hào)將很弱。3.質(zhì)譜分析

1)部分物質(zhì)的質(zhì)量/電荷比相同，如N2、CO、Si等，使得檢測(cè)同時(shí)擁有這些成分的刻蝕時(shí)無(wú)法判斷刻蝕是否完成。

2)從空腔取樣的結(jié)果會(huì)影響刻蝕終點(diǎn)的檢測(cè)。3)設(shè)備不容易安裝到各種刻蝕機(jī)上。【作業(yè)布置】

【課后分析】

第四篇：半導(dǎo)體工藝工程師見(jiàn)習(xí)期小結(jié)

見(jiàn)習(xí)期小結(jié)

2011年03月，我有幸進(jìn)入無(wú)錫華潤(rùn)上華科技有限公司。作為華潤(rùn)集團(tuán)旗下的華潤(rùn)微電子有限公司的分公司之一，我們公司是8寸半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)企業(yè)，年產(chǎn)2萬(wàn)片芯片。作為一名擴(kuò)散部爐管科的工藝工程師，我們的職責(zé)就是解決在線異常問(wèn)題，培訓(xùn)一線員工正確操作，提高產(chǎn)品的質(zhì)量、穩(wěn)定性和良率，改進(jìn)工藝，降低生產(chǎn)成本，提高設(shè)備使用率，提高產(chǎn)能。一眨眼，一年的見(jiàn)習(xí)期轉(zhuǎn)瞬即逝。在這近一年里我深刻體會(huì)到了作為一名工藝工程師的艱辛和快樂(lè)，以下是我見(jiàn)習(xí)期工作小結(jié)。

一、保持良好的心態(tài)、努力提高自身各方面能力。

每個(gè)企業(yè)都有自己的企業(yè)文化，為了讓我們盡快融入華潤(rùn)這個(gè)大家庭，華潤(rùn)集團(tuán)組織新員工參加未來(lái)之星訓(xùn)練營(yíng)，使我們了解企業(yè)的發(fā)展歷史，企業(yè)的宗旨和目標(biāo)；組織軍訓(xùn)，鍛煉我們的紀(jì)律性和韌性；邀請(qǐng)成功人士和學(xué)者現(xiàn)身說(shuō)法，使我們保持良好的心態(tài)，規(guī)劃自己的未來(lái)，尋找成功的方法，克服不良的習(xí)慣，教會(huì)我們合理分配時(shí)間和安排工作。訓(xùn)練營(yíng)的所見(jiàn)所聞，改變了我，使我在日常的工作中受益匪淺。在工作中，我時(shí)刻提醒自己要保持良好的心態(tài)，不抱怨，積極主動(dòng)的去解決問(wèn)題；虛心學(xué)習(xí)，勤做筆記，經(jīng)常總結(jié)，不斷提高自身各方面的能力。

二、虛心學(xué)習(xí)，進(jìn)益求精

工作中，各個(gè)師傅傾囊相授，把自己幾十年的經(jīng)驗(yàn)悉心傳授，教我要膽大心細(xì)，精益求精。為防止出差錯(cuò)，我做過(guò)的事情，自己會(huì)檢查，師傅們也都會(huì)再檢查一遍，即使他們自己做的事，他們也會(huì)讓其他人幫忙檢查，切實(shí)落實(shí)了自檢和互檢制度。別的部門(mén)出現(xiàn)的錯(cuò)誤，我們也會(huì)檢查我們是否有相似的問(wèn)題，然后制定措施進(jìn)行整改。例如之前有個(gè)部門(mén)因?yàn)橹霸O(shè)置的報(bào)警限值在修改工藝菜單后失效，導(dǎo)致公司損失很大。我們領(lǐng)導(dǎo)就組織大家檢查每個(gè)工藝的菜單，根據(jù)實(shí)際

情況重新設(shè)定每個(gè)工藝的報(bào)警限值，這個(gè)工作一下持續(xù)了將近半個(gè)月。正是因?yàn)榇蠹业木媲缶覀儾块T(mén)年終獲得公司的質(zhì)量明星獎(jiǎng)。在大家的影響下，我也養(yǎng)成了自查和互查的習(xí)慣，工作中精益求精，我相信這個(gè)習(xí)慣會(huì)使我受益終生。

二、舍得吃苦，努力才會(huì)有收獲

我們公司是24h不間斷生產(chǎn)，生產(chǎn)不停，我們工藝工程師也得24h值班，因此要值夜班。剛開(kāi)始跟著師傅上夜班，有點(diǎn)不適應(yīng)，后來(lái)在同事的幫助下，我很快就適應(yīng)了上夜班。剛來(lái)時(shí)感覺(jué)什么都不會(huì)，就當(dāng)師傅的跟班。生產(chǎn)線上生產(chǎn)任務(wù)重，每個(gè)人的工作量都比較大，在凈化間里，師傅走的很快，我?guī)缀跏且宦沸∨埽瓦@樣還跟丟了好幾次。剛開(kāi)始師傅讓學(xué)習(xí)的東西，我都不知道為什么要學(xué)習(xí)，到后來(lái)我會(huì)主動(dòng)去尋找相關(guān)的資料去學(xué)習(xí)，我知道我已經(jīng)認(rèn)清自己的工作了。在這一年里，我從最初的跟班開(kāi)始，到現(xiàn)在能夠獨(dú)擋一面，離不開(kāi)各位師傅的悉心教導(dǎo)，也離不開(kāi)領(lǐng)導(dǎo)的關(guān)懷和指點(diǎn)。我自身各方面都還有很大的不足，需要改進(jìn)和學(xué)習(xí)的地方還很多，我現(xiàn)在需要做的就是多做事，不論大事小事，每多做一件事情必然會(huì)多學(xué)到一些知識(shí)，必然會(huì)積累經(jīng)驗(yàn)。只有付出，才會(huì)有收獲，只有學(xué)習(xí)才會(huì)進(jìn)步。

三、放低姿態(tài)，協(xié)調(diào)好各方面的關(guān)系。

生產(chǎn)線上的每個(gè)工作都是必不可少的，都會(huì)受前段工序的影響，也會(huì)影響下端工序的進(jìn)度。在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)企業(yè)，由于產(chǎn)品種類(lèi)很多，每批產(chǎn)品的工序都不一樣，因此接觸的部門(mén)也不一樣。我們需要和公司各個(gè)部門(mén)打交道。只有溝通良好，才能保證工作的順利進(jìn)行。剛開(kāi)始我覺(jué)得工作各有分工，大家各盡其責(zé)。但工作中，我發(fā)現(xiàn)，即使是同一件事，不同的人協(xié)調(diào)，效果就不一樣。有的人說(shuō)話很有執(zhí)行力，有的人說(shuō)話別人卻當(dāng)耳旁風(fēng)。我發(fā)現(xiàn)你想讓別人盡快完成你吩咐的事情，你就要有權(quán)威或彼此關(guān)系融洽。因此在工作上，我就放低姿態(tài)，虛心向大家學(xué)習(xí)，偶爾請(qǐng)大家喝飲料或聊聊天，盡量協(xié)調(diào)好各方

面的關(guān)系。

四、奮發(fā)圖強(qiáng)，努力提高自我。

在過(guò)去的一年中，在領(lǐng)導(dǎo)的關(guān)懷和同事們的支持與幫助下，經(jīng)過(guò)不斷努力，我現(xiàn)在能夠獨(dú)擋一面，但是仍存在著一些不足，在今后的工作中，自己要加強(qiáng)學(xué)習(xí)、克服缺點(diǎn)，力爭(zhēng)使自己的專(zhuān)業(yè)技術(shù)水平能夠不斷提高。同時(shí)我清楚地認(rèn)識(shí)到，為適應(yīng)新的發(fā)展形勢(shì)，我還要不斷地加強(qiáng)理論學(xué)習(xí)，尤其是新技術(shù)、新理論的學(xué)習(xí)，勤奮工作，在實(shí)際工作中鍛煉和成長(zhǎng)，不斷積累工作經(jīng)驗(yàn)，提高業(yè)務(wù)能力和工作水平，為公司的發(fā)展做出自己新的、更大的貢獻(xiàn)。

六、致謝。

我能適應(yīng)當(dāng)前的工作，并能取得不斷的進(jìn)步，是和各位領(lǐng)導(dǎo)和各位師傅無(wú)私的幫助和關(guān)懷分不開(kāi)的，在此表示感謝。感謝各位領(lǐng)導(dǎo)，輔導(dǎo)我做好工作規(guī)劃；感謝各位師傅，教會(huì)我各種工作方法和解決工作中的各種難題。

第五篇：半導(dǎo)體工藝工程師見(jiàn)習(xí)期小結(jié)

見(jiàn)習(xí)期小結(jié)

2011年03月，我有幸進(jìn)入無(wú)錫華潤(rùn)上華科技有限公司。作為華潤(rùn)集團(tuán)旗下的華潤(rùn)微電子有限公司的分公司之一，我們公司是8寸半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)企業(yè)，年產(chǎn)2萬(wàn)片芯片。作為一名擴(kuò)散部爐管科的工藝工程師，我們的職責(zé)就是解決在線異常問(wèn)題，培訓(xùn)一線員工正確操作，提高產(chǎn)品的質(zhì)量、穩(wěn)定性和良率，改進(jìn)工藝，降低生產(chǎn)成本，提高設(shè)備使用率，提高產(chǎn)能。一眨眼，一年的見(jiàn)習(xí)期轉(zhuǎn)瞬即逝。在這近一年里我深刻體會(huì)到了作為一名工藝工程師的艱辛和快樂(lè)，以下是我見(jiàn)習(xí)期工作小結(jié)。

一、保持良好的心態(tài)、努力提高自身各方面能力。

每個(gè)企業(yè)都有自己的企業(yè)文化，為了讓我們盡快融入華潤(rùn)這個(gè)大家庭，華潤(rùn)集團(tuán)組織新員工參加未來(lái)之星訓(xùn)練營(yíng)，使我們了解企業(yè)的發(fā)展歷史，企業(yè)的宗旨和目標(biāo)；組織軍訓(xùn)，鍛煉我們的紀(jì)律性和韌性；邀請(qǐng)成功人士和學(xué)者現(xiàn)身說(shuō)法，使我們保持良好的心態(tài)，規(guī)劃自己的未來(lái)，尋找成功的方法，克服不良的習(xí)慣，教會(huì)我們合理分配時(shí)間和安排工作。訓(xùn)練營(yíng)的所見(jiàn)所聞，改變了我，使我在日常的工作中受益匪淺。在工作中，我時(shí)刻提醒自己要保持良好的心態(tài)，不抱怨，積極主動(dòng)的去解決問(wèn)題；虛心學(xué)習(xí)，勤做筆記，經(jīng)常總結(jié)，不斷提高自身各方面的能力。

二、虛心學(xué)習(xí)，進(jìn)益求精

工作中，各個(gè)師傅傾囊相授，把自己幾十年的經(jīng)驗(yàn)悉心傳授，教我要膽大心細(xì)，精益求精。為防止出差錯(cuò)，我做過(guò)的事情，自己會(huì)檢查，師傅們也都會(huì)再檢查一遍，即使他們自己做的事，他們也會(huì)讓其他人幫忙檢查，切實(shí)落實(shí)了自檢和互檢制度。別的部門(mén)出現(xiàn)的錯(cuò)誤，我們也會(huì)檢查我們是否有相似的問(wèn)題，然后制定措施進(jìn)行整改。例如之前有個(gè)部門(mén)因?yàn)橹霸O(shè)置的報(bào)警限值在修改工藝菜單后失效，導(dǎo)致公司損失很大。我們領(lǐng)導(dǎo)就組織大家檢查每個(gè)工藝的菜單，根據(jù)實(shí)際情況重新設(shè)定每個(gè)工藝的報(bào)警限值，這個(gè)工作一下持續(xù)了將近半個(gè)月。正是因?yàn)榇蠹业木媲缶覀儾块T(mén)年終獲得公司的質(zhì)量明星獎(jiǎng)。在大家的影響下，我也養(yǎng)成了自查和互查的習(xí)慣，工作中精益求精，我相信這個(gè)習(xí)慣會(huì)使我受益終生。

二、舍得吃苦，努力才會(huì)有收獲

我們公司是24h不間斷生產(chǎn)，生產(chǎn)不停，我們工藝工程師也得24h值班，因此要值夜班。剛開(kāi)始跟著師傅上夜班，有點(diǎn)不適應(yīng)，后來(lái)在同事的幫助下，我很快就適應(yīng)了上夜班。剛來(lái)時(shí)感覺(jué)什么都不會(huì)，就當(dāng)師傅的跟班。生產(chǎn)線上生產(chǎn)任務(wù)重，每個(gè)人的工作量都比較大，在凈化間里，師傅走的很快，我?guī)缀跏且宦沸∨埽瓦@樣還跟丟了好幾次。剛開(kāi)始師傅讓學(xué)習(xí)的東西，我都不知道為什么要學(xué)習(xí)，到后來(lái)我會(huì)主動(dòng)去尋找相關(guān)的資料去學(xué)習(xí)，我知道我已經(jīng)認(rèn)清自己的工作了。在這一年里，我從最初的跟班開(kāi)始，到現(xiàn)在能夠獨(dú)擋一面，離不開(kāi)各位師傅的悉心教導(dǎo)，也離不開(kāi)領(lǐng)導(dǎo)的關(guān)懷和指點(diǎn)。我自身各方面都還有很大的不足，需要改進(jìn)和學(xué)習(xí)的地方還很多，我現(xiàn)在需要做的就是多做事，不論大事小事，每多做一件事情必然會(huì)多學(xué)到一些知識(shí)，必然會(huì)積累經(jīng)驗(yàn)。只有付出，才會(huì)有收獲，只有學(xué)習(xí)才會(huì)進(jìn)步。

三、放低姿態(tài)，協(xié)調(diào)好各方面的關(guān)系。

生產(chǎn)線上的每個(gè)工作都是必不可少的，都會(huì)受前段工序的影響，也會(huì)影響下端工序的進(jìn)度。在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)企業(yè)，由于產(chǎn)品種類(lèi)很多，每批產(chǎn)品的工序都不一樣，因此接觸的部門(mén)也不一樣。我們需要和公司各個(gè)部門(mén)打交道。只有溝通良好，才能保證工作的順利進(jìn)行。剛開(kāi)始我覺(jué)得工作各有分工，大家各盡其責(zé)。但工作中，我發(fā)現(xiàn)，即使是同一件事，不同的人協(xié)調(diào)，效果就不一樣。有的人說(shuō)話很有執(zhí)行力，有的人說(shuō)話別人卻當(dāng)耳旁風(fēng)。我發(fā)現(xiàn)你想讓別人盡快完成你吩咐的事情，你就要有權(quán)威或彼此關(guān)系融洽。因此在工作上，我就放低姿態(tài)，虛心向大家學(xué)習(xí)，偶爾請(qǐng)大家喝飲料或聊聊天，盡量協(xié)調(diào)好各方面的關(guān)系。

四、奮發(fā)圖強(qiáng)，努力提高自我。

在過(guò)去的一年中，在領(lǐng)導(dǎo)的關(guān)懷和同事們的支持與幫助下，經(jīng)過(guò)不斷努力，我現(xiàn)在能夠獨(dú)擋一面，但是仍存在著一些不足，在今后的工作中，自己要加強(qiáng)學(xué)習(xí)、克服缺點(diǎn)，力爭(zhēng)使自己的專(zhuān)業(yè)技術(shù)水平能夠不斷提高。同時(shí)我清楚地認(rèn)識(shí)到，為適應(yīng)新的發(fā)展形勢(shì)，我還要不斷地加強(qiáng)理論學(xué)習(xí)，尤其是新技術(shù)、新理論的學(xué)習(xí)，勤奮工作，在實(shí)際工作中鍛煉和成長(zhǎng)，不斷積累工作經(jīng)驗(yàn)，提高業(yè)務(wù)能力和工作水平，為公司的發(fā)展做出自己新的、更大的貢獻(xiàn)。

六、致謝。

我能適應(yīng)當(dāng)前的工作，并能取得不斷的進(jìn)步，是和各位領(lǐng)導(dǎo)和各位師傅無(wú)私的幫助和關(guān)懷分不開(kāi)的，在此表示感謝。感謝各位領(lǐng)導(dǎo)，輔導(dǎo)我做好工作規(guī)劃；感謝各位師傅，教會(huì)我各種工作方法和解決工作中的各種難題。