第一篇：氧化石墨烯的制備方法總結

氧化石墨烯的制備方法： 方法一：

由天然鱗片石墨反應生成氧化石墨，大致分為 3 個階段，低溫反應：在冰水浴中放入大燒杯，加入 110mL 濃 H2SO4，在磁力攪拌器上攪拌，放入溫度計讓其溫度降至 4℃左右。加入-100目鱗片狀石墨 5g，再加入 2.5g NaNO3，然后緩慢加入 15g KMnO4，加完后記時，在磁力攪拌器上攪拌反應 90min，溶液呈紫綠色。中溫反應：將冰水浴換成溫水浴，在磁力攪拌器攪拌下將燒杯里的溫度控制在32~40℃，讓其反應 30 min，溶液呈紫綠色。高溫反應：中溫反應結束之后，緩慢加入 220mL 去離子水，加熱保持溫度 70~100℃左右，緩慢加入一定雙氧水(5 %)進行高溫反應，此時反應液變成金黃色。反應后的溶液在離心機中多次離心洗滌，直至 BaCl2檢測無白色沉淀生成，說明沒有 SO42-的存在，樣品在 40~50℃溫度下烘干。H2SO4、NaNO3、KMnO4一起加入到低溫反應的優點是反應溫度容易控制且與 KMnO4反應時間足夠長。如果在中溫過程中加入 KMnO4，一開始溫度會急劇上升，很難控制反應的溫度在 32~40℃。技術路線圖見圖 1。

方法二：Hummers 方法

采用Hummers 方法[5]制備氧化石墨。具體的工藝流程在冰水浴中裝配好250 mL 的反應瓶加入適量的濃硫酸攪拌下加入2 g 石墨粉和1 g 硝酸鈉的固體混合物再分次加入6 g 高錳酸鉀控制反應溫度不超過20℃攪拌反應一段時間然后升溫到35℃左右繼續攪拌30 min再緩慢加入一定量的去離子水續拌20 min 后并加入適量雙氧水還原殘留的氧化劑使溶液變為亮黃色。趁熱過濾并用5%HCl 溶液和去離子水洗滌直到濾液中無硫酸根被檢測到為止。最后將濾餅置于60℃的真空干燥箱中充分干燥保存備用。方法三：修正的Hummers方法

采用修正的Hummers方法合成氧化石墨，如圖1中(1)過程。即在冰水浴中裝配好250 mL的反應瓶，加入適量的濃硫酸，磁力攪拌下加入2 g 石墨粉和1 g硝酸鈉的固體混合物，再緩慢加入6 g高錳酸鉀，控制反應溫度不超過10 ℃，在冰浴條件下攪拌2 h后取出，在室溫下攪拌反應5 d。然后將樣品用5 %的H2SO4（質量分數）溶液進行稀釋，攪拌2 h后，加入6 mL H2O2，溶液變成亮黃色，攪拌反應2 h離心。然后用濃度適當的H2SO4、H2O2混合溶液以及HCl反復洗滌、最后用蒸餾水洗滌幾次，使其pH~7，得到的黃褐色沉淀即為氧化石墨(GO)。最后將樣品在40 ℃的真空干燥箱中充分干燥。將獲得的氧化石墨入去離子水中，60 W功率超聲約3 h，沉淀過夜，取上層液離心清洗后放入烘箱內40 ℃干燥，即得片層較薄的氧化石墨烯，如圖1中(2)過程。

方法四：超聲輔助Hummers法制備氧化石墨烯

該方法主要包含了低溫、中溫、高溫3個反應階段。研究表明[8]：低溫反應主要發生硫酸分子在石墨層間插層；中溫反應主要發生石墨的深度氧化；高溫反應過程則主要發生層間化合物的水解反應。低溫反應插層充分，中溫反應深度氧化完全，高溫反應水解徹底，是獲得層間距較大氧化石墨的有效途徑之一，這種層間距較大的氧化石墨不僅有利于其他分子、原子等插入層間形成氧化石墨插層復合材料，而且易于被剝離成單層氧化石墨，為進一步制備單層石墨烯打下基礎。1.2.1Hummers法制備氧化石墨烯

低溫反應：量取23mL濃硫酸倒入燒杯，燒杯放入冰浴中冷卻至4℃以下，稱取1g石墨粉和0.5g硝酸鈉放入燒杯，1h以后緩慢加入3g高錳酸鉀，控制溫度不超過10℃，反應時間共約2h；中溫反應：把燒杯移至恒溫水浴鍋，水浴溫度控制在38℃反應0.5h，保持攪拌；高溫反應：在所得混合液中緩慢加入80mL的去離子水，保持混合液溫度~95℃反應30min，期間保持適度攪拌；高溫反應后加入約60mL去離子水中止反應，加入15mL(30Vol%)的雙氧水，待反應約15min后再加入40mL(10Vol%)的鹽酸溶液。低速離心洗滌去除過量的酸及副產物，將洗滌后呈中性的氧化石墨分散于水中，超聲震蕩剝離40min，超聲結束后在2500r·min-1轉速下離心30min，上層液即是氧化石墨烯懸濁液。1.2.2預氧化-Hummers法制備氧化石墨烯

將30mL濃H2SO4，10gK2S2O8，10gP2O5置于三口燒瓶中，加熱至80℃后加入20g石墨粉后保溫6h，自然冷卻至室溫后，稀釋，抽濾，洗滌直至中性，室溫下自然干燥。取1g預處理過的樣品進行Hummers法制備氧化石墨烯(見1.2.1)。1.2.3低中溫超聲輔助Hummers法合成氧化石墨烯

低溫反應：量取23mL濃硫酸倒入燒杯，燒杯放入冰浴中冷卻至4℃以下，稱取1g石墨粉和0.5g硝酸鈉放入燒杯，開啟超聲，1h以后緩慢加入3g高錳酸鉀，關閉超聲并開始攪拌，控制溫度不超過10℃，反應時間共2h；中溫反應：把燒杯移至水浴鍋，開啟超聲，水浴溫度控制在38℃反應0.5h；高溫反應：把所得混合液緩慢加入約100mL的低溫去離子水中，接著將以上混合液置于~95℃水浴中反應30min，期間保持適度機械攪拌；高溫反應后加入60mL去離子水中止反應，隨后加入25mL(30Vol%)的雙氧水，待反應約15min后再加入40mL(10Vol%)的鹽酸溶液溶解。低速離心洗滌去除過量的酸及副產物，將洗滌后呈中性的氧化石墨分散于水中，超聲振蕩剝離40min，超聲結束后在2500r·min-1轉速下離心30min，上層液即是氧化石墨烯分散液。

1.2.4低溫超聲輔助Hummers法合成氧化石墨烯

除把中溫反應的超聲振蕩改為攪拌以外，其他均與1.2.3合成工藝相同。1.2.5中溫超聲輔助Hummers法合成氧化石墨烯

除在低溫反應階段只使用攪拌(不使用超聲振蕩)以外，其他均與1.2.3合成工藝相同。方法五：溫老師的方法

The 500-mesh flake graphite(1 g)and NaNO3(0.75 g)were dissolved in 75 mL 98 wt % H2SO4 under magnetic stirring in ice-water bath and KMnO4(4.5 g)were added gently.After completion of the addition, the reaction mixture was stirred continuously for 2 h.Then, the reaction was allowed to react for 5 days at room temperature.Afterward, KMnO4(2.25 g)was added gradually to the reaction mixture within 2 h under an ice water bath and then keep the reaction for another 5 days.After raising the temperature to 90 C, 140mL 5 wt % H2SO4 was added gradually to the reaction mix-ture under magnetic stirring for 2 h.The temperature was then decreased to 60 C, and 3 mL 30 wt % H2O2 was added to the reaction product.The as-prepared GO was purified by repeated centrifugation and washing process according to the literature.1

第二篇：石墨烯制作方法總結

目前制備石墨烯采用的方法有：微機械剝離法、化學氣相沉積法、氧化還原法、溶劑剝離法和溶劑熱法等．

Large-scale pattern growth of graphene films for stretchable transparent electrodes

Figure 1 | Synthesis, etching and transfer processes for the largescale and patterned graphene films.a, Synthesis of patterned graphene films on thin nickel layers.b, Etching using FeCl3(or acids)and transfer of graphene films using a PDMS stamp.c, Etching using BOE or hydrogen fluoride(HF)solution and transfer of graphene films.RT, room temperature(,25 ℃).Thin layers of nickel of thickness less than 300nm were deposited on SiO2/Si substrates using an electron-beam evaporator電子束蒸發器, and the samples were then heated to 1,000℃ inside a quartz tube under an argon atmosphere.After flowing reaction gas mixtures(CH4:H2:Ar=50:65:200 standard cubic centimetres per minute), we rapidly cooled the samples to room temperature(25℃)at the rate of ,10℃/s using flowing argon.We found that this fast cooling rate is critical關鍵 in suppressing formation of multiple layers and for separating graphene layers efficiently from the substrate in the later process.In our work,an aqueous iron(III)chloride(FeCl3)solution(1 M)was used as an oxidizing etchant to remove the nickel layers.The net ionic equation of the etching reaction can be represented as follows:

2Fe3+(aq)+Ni(s)=2Fe2+(aq)+Ni2+(aq)This redox process slowly etches the nickel layers effectively within a mild pH range without forming gaseous products or precipitates.In a few minutes, the graphene film separated from the substrate floats on the surface of the solution, and the film is then ready to be transferred to any kind of substrate.Graphene on metal surfaces

第三篇：石墨烯學習心得

石墨烯學習心得

最近這段時間斷斷續續搜集了很多納米材料、半導體物理還有石墨烯的相關資料，主要是來自萬方數據網、超星學術視頻網站、百度文庫還有一些相關網頁博客資料。了解到了很多之前聞所未聞的知識，比如“納米材料的神奇特性、納米科技潛在的危害”等等。

對于石墨烯，主要有如下幾方面不成熟的想法，還望老師您來指正。

（一）在石墨烯新奇特性以及宏觀應用預測方面

有人認為，石墨烯的這些新奇的特性以及預期應用并不能推廣到宏觀尺寸。

第一是認為很多實驗數據都是來源于對微納米級單層石墨烯的實驗研究，不能把納米微米級觀察和測試到的數據無限夸大到宏觀應用；

第二是認為單層懸浮石墨烯的特異性是依靠其邊界碳原子的色散作用而穩定存在，大面積的單層懸浮石墨稀不可能穩定存在。第三是認為目前的大面積石墨烯的應用實例存在相當大的褶皺以及碳原子缺失。因而否定很多2010年諾貝爾物理獎的公告中對于石墨稀的宏觀應用預測，并主張繼續深入石墨烯微觀性能研究，比如半導體器件等研究。

我想：我們最好還是不能放棄石墨烯在宏觀尺度上應用的希望，應該盡最大努力用各種手段去克服所謂的褶皺、碳原子缺失等等導致石墨烯性質不能穩定存在的負面因素，比如采用襯底轉移（CVD）的方式所制大面積石墨烯透明電極尺寸的方法（雖然制得的石墨烯還有很多的缺陷，但至少證明大面積石墨烯還是有可能穩定存在并最終為我們所用的吧，畢竟有宏觀實際應用的材料才更有可能是有發展前景的新型材料）。

（二）在石墨烯制備工藝方面 我們知道，石墨烯非常有希望在諸多應用領域中成為新一代器件，但這些元件要達到實際應用水平,還需要解決很多問題。那就是如何在所要求的基板或位臵制作出不含缺陷及雜質的高品質石墨烯,或者通過摻雜(Doping)法實現所期望載流子密度的石墨烯。用于透明導電膜用途時能否實現大面積化及量產化,而用于晶體管用途時能否提高層控制精度,這些問題都十分重要。今后,為了探尋石墨烯更廣闊的應用領域,還需繼續尋求更為優異的石墨烯制備工藝,使其得到更好的應用。

（三）石墨烯在納米存儲器上的應用前景

傳統的半導體工藝技術已逐漸逼近物理極限，難以大幅度提高存儲器的性能，越來越難以滿足人們對存儲器的要求，要想有突破性的進展，就必須另辟蹊徑，尋找新的原理和方法。

第一是因為傳統半導體存儲器存在容量小數據易丟失等弊端。第二是因為現代化信息爆炸社會迫切要求新型的大容量存儲器的出現。

第三因為是人們對信息存儲的安全性要求越來越高。最后，假如納米存儲技術能夠實現的話，屆時我們電腦中的存儲設備也許會以PB為單位計算，而因存儲介質損壞導致數據丟失的煩惱也將遠離我們。所以我覺得：要是可能的話，以石墨烯為介質的存儲器，應該是一個不錯的研究方向。

第四篇：石墨烯前景

2013年1月，歐盟委員會將石墨烯列為“未來新興技術旗艦項目”之一；

十二五規劃

石墨烯是新材料中最為“時髦”的一員。它具有超硬、最薄、負電子的特征，有很強的韌性、導電性以及導熱性。這使其能夠廣泛應用于電子、航天、光學、儲能、生物醫學等眾多領域，擁有巨大的產業發展空間。

因此，石墨烯在2004年被發現后就迅速引發全球范圍內的研究熱。近年來我國在石墨烯研發應用方面的研究不斷加強，各地政府和有關機構加大力度扶持和推動石墨烯產業化發展。

2013年6月，內蒙古石墨烯材料研究院正式成立。這是我國首個與石墨烯材料相關的綜合性研究機構和技術開發中心。

2013年7月13日，在中國產學研合作促進會的支持下，中國石墨烯產業技術創新戰略聯盟正式成立。該聯盟已向有關部門上報了無錫、青島、寧波、深圳四個地方，作為石墨烯產業研發示范基地。江蘇省、山東省等省級石墨烯聯盟已于2013年陸續成立。

2013年12月18日，無錫市發布《無錫石墨烯產業發展規劃綱要》，規劃建立無錫石墨烯產業發展示范區和無錫市石墨烯技術及應用研發中心、江蘇省石墨烯質量監督檢驗中心。力爭把無錫市打造成國家級石墨烯產業應用示范基地和具有國際競爭力的石墨烯產業發展示范區。

2013年12月20日，寧波年產300噸石墨烯規模生產線正式落成投產。

與此同時，上海浦東新區也正籌備建立臨港石墨烯產業園區，并力爭國家石墨烯檢驗監測中心落戶浦東。

石墨烯產業遍地開花。據記者了解，目前，無錫市已設立2億元專項資金，通過補貼、配套、獎勵、跟進投資、股權投資等方式，進一步扶持石墨烯產業發展；寧波為了扶持石墨烯產業發展，也拿出了千萬元以上的扶持資金。業內人士表示，作為一種理想的替代型材料，石墨烯一旦實現產業化其產值至少在萬億元以上。

推進產業結構優化

第五篇：關于石墨烯的總結

一．石墨烯常用修飾方法總結

石墨烯是由一層密集的、包裹在蜂巢晶體點陣上的碳原子組成，是世界上最薄的二維材料，其厚度僅為 0.35 nm。這種特殊結構蘊含了豐富而新奇的物理現象，使石墨烯表現出許多優異性質。

結構完整的石墨烯是由不含任何不穩定鍵的苯六元環組合而成的二維晶體，化學穩定性高，其表面呈惰性狀態，與其他介質(如溶劑等)的相互作用較弱，并且石墨烯片與片之間有較強的范德華力，容易產生聚集，使其難溶于水及常用的有機溶劑，這給石墨烯的進一步研究和應用造成了極大的困難。為了充分發揮其優良性質，并改善其成型加工性(如提高溶解性、在基體中的分散性等)，必須對石墨烯進行有效的功能化。通過引入特定的官能團，還可以賦予石墨烯新的性質，進一步拓展其應用領域。功能化是實現石墨烯分散、溶解和成型加工的最重要手段。

從功能化的方法來看。主要分為共價鍵功能化和非共價鍵功能化兩種。

1.石墨烯的共價功能化

石墨烯的共價鍵功能化是目前研究最為廣泛的功能化方法。盡管石墨

烯的主體部分由穩定的六元環構成，但其邊沿及缺陷部位具有較高的反應活性，可以通過化學氧化的方法制備石墨烯氧化物(Grapheneoxide)。由于石墨烯氧化物中含有大量的羧基、羥基和環氧鍵等活性基團，可以利用多種化學反應對石墨烯進行共價鍵功能化。

１.1 石墨烯的聚合物功能化

(１)聚乙二醇（PEG）具有優異的生物相容性和親水性，被廣泛應用于多種不同的功能化納米材料，以提高這些材料的生物相容性，減小其對生物分子及細胞的非特定的約束力，也改善了體內的藥物代謝動力學，以實現更好的腫瘤靶向性治療[1,2,3-5]。2008年，Dai 等使用六臂星型氨基聚乙二醇的端氨基與納米石墨烯片邊緣的羧基通過亞胺催化酰胺形成反應，制備 PEG 修飾納米石墨烯片，得到的產物在用于體外給藥和生物成像的生理溶液中顯示了優良的分散性和穩定性[2]。

（2）除了PEG外，還有其他的被用來共價功能化GO的親水大分子。劉莊工作組，將氨基修飾的DEX與GO通過共價鍵鍵合，得到了具有生物相容性的材料，這種材料大大提高了GO生理溶解性的穩定性[6]。Bao et al.用殼聚糖修飾GO,得到共價功能化的GO，這種材料被用于藥物傳遞和基因轉染[7]。除了GO上羧基（-COOH）的化學反應外，還有其基地平面上的環氧基團也被用于與其他聚合物的結合。比如，Niu及其工作人員報道稱氨基化的PLL功能化的GO就是利用GO上的環氧基團的活性反應。

1.2 石墨烯的小分子功能化

2006 年, Stankovich 等利用有機小分子實現了石墨烯的共價鍵功能化[8]，他們首先制備了氧化石墨,然后利用異氰酸酯與氧化石墨上的羧基和羥基反應，制備了一系列異氰酸酯功能化的石墨烯。該功能化石墨烯可以在 N,N-二甲基甲酰胺(DMF)等多種極性非質子溶劑中實現均勻分散，并能夠長時間保持穩定。該方法過程簡單，條件溫和(室溫)，功能化程度高，為石墨烯的進一步加工和應用提供了新的思路。

石墨烯氧化物及其功能化衍生物具有較好的溶解性，但由于含氧官能團的引入，破壞了石墨烯的大π共軛結構，使其導電性及其他性能顯著降低。為了在功能化的同時盡量保持石墨烯的本征性質，Samulski 等發展了一種新的功能化方法。他們以石墨烯氧化物為原料，首先采用硼氫化鈉還

原，然后磺化, 最后再用肼還原的方法, 得到了磺酸基功能化的石墨烯[9]。該方法通過還原除去了石墨烯氧化物中的多數含氧官能團，很大程度上恢復了石墨烯的共軛結構，其導電性顯著提高(1250 S/m)，并且，由于在石墨烯表面引入磺酸基，使其可溶于水，便于進一步的研究及應用。2.石墨烯的非共價功能化

石墨烯的非共價功能化包含有π-π堆垛相互作用，疏水作用，靜電作用等非共價鍵作用，使修飾分子對石墨烯進行表面功能化，形成穩定的分散體系。

2.1 石墨烯的疏水非共價功能化

(1)

Hu

et

al.[10]

利

用

PF127(Pluronic F127)功能化修飾石墨烯，得到了graphene-PF127納米材料，這種材料有親水鏈使其具有水溶性，也有與石墨烯通過疏水作用相連的疏水部分。

（2）Liu et al.利用C18PMH-PEG功能化RGO[11-12]，這種RGO-PEG有很好的生理穩定性，而且在光熱治療癌癥中，這種材料在血液循環中的半衰期有所增長。

（3）Huang et al.發現GO在牛胎的血清蛋白中經過超聲處理，可以得到GO-Protein復合物，它有極低的細胞毒性[13]。這種非極性氨基酸中的血清蛋白可以通過疏水作用非共價修飾石墨烯。Liu et al.用明膠通過類似的方法功能化GO[14]。

以上都為疏水作用的非共價修飾功能化石墨烯，石墨烯為富電子體，因此可以通過靜電作用對石墨烯進行非共價修飾。

2.2 石墨烯的靜電作用非共價功能化

（1）Liu et al.利用帶正電荷的，被廣泛用于基因轉染的聚合物PEI非共價修飾GO，得到了GO-PEI，這種材料的生理穩定性比GO的生理穩定性好，減小了PEI的毒性，并且具有很高的基因轉染率[15]。

（2）Misra et al.用帶正電的葉酸結合殼聚糖，然后再包裹藥物DOX，最后再加載在GO上，得到了DOX-GO-Chitosan-folate這種具有pH敏感釋放藥物特點的納米載藥體。2.3 石墨烯的π-π堆垛相互作用非共價功能化

表面很多π電子效應區的石墨烯和氧化石墨烯都可以與多種芳香族分子通過π-π堆垛相互作用結合在一起。Liu et al.利用單鏈DNA與石墨烯之間的π-π鍵合力證實了，在化學還原GO時引入DNA可以得到DAN修飾的RGO，這種材料具有很好的水溶性[16]。納米石墨烯上的納米粒子修飾

許多無機納米結構材料，例如，金屬及金屬氧化物納米材料包括Au，Ag，Pd，Pt，Ni和Cu，TiO2，ZnO，MnO2，Co3O4和 Fe3O4都已經用于石墨烯即其衍生物的修飾，并且修飾的材料用于不同的領域[17-22]。

（1）由于這種材料具有光學活性和磁性，GO-iron氧化納米材料（GO-IONP）吸引了生物醫學界的注意力。2008年，Chen等研制出GO-IONP納米復合材料，這種材料可被用作控制藥物傳遞及釋放的藥物載體[23,24]。Zhang等報道稱GO-IONP可用作細胞標記和磁共振成像造影劑

[25]。

（2）Liu et al.研制的GO-IONP包含有部分用氨基化的PEG共價修飾和用兩性分子C18PMH-PEG非共價修飾還原的GO，這種材料用于體外藥物的靶向傳遞，也用于體內多種成像導向光熱治療[26-27]。

比有磁性的GO復合物優越的多種其他納米微粒修飾的GO納米復合材料已顯現出生物醫學的運用潛力。

（3）Chen et al.研制出量子點還原修飾的GO納米復合材料（RGO-QD），用于熒光細胞成像和光熱治療。有趣的是，RGO與QD間的距離合適時，RGO-QDs的熒光猝滅會減小[28]。金納米簇修飾的RGO的納米復合材料也被報道并用于藥物傳遞和癌細胞成像，而且TiO2修飾的GO也已經合成并用于光動力療法殺死癌細胞[29]。二．功能化石墨烯在藥物傳遞領域的應用總結

在過去十年，納米材料在藥物傳遞系統已被廣泛用于癌癥治療，旨在提高治療效果，減小毒副作用。自2008年起，許多工作團隊包括Liu 的工作團隊開始探究石墨烯在藥物傳遞系統中的應用。單層的GO或者RGO有極多高效載藥的表面區域，石墨烯的這種π電子效應能夠使各種芳香藥物分子通過π-π堆垛作用與石墨烯鍵合。用靶向配合體功能化修飾GO或者RGO，使針對癌細胞的特定類型的選擇性給藥得以實現。

不同表面功能化的GO已被用作負載各種化學治療藥物，這些藥物包括DOX,CPT,SN38,ellagic acid,β-lapachone

和1,3-bis(2-chloroethyl)-1-nitrosourea(BCNU)，它們與GO通過物理吸收或者共價修飾鍵合。

（1）由于石墨烯具有單原子層結構, 其比表面積很大, 非常適合用作藥物載體。2008年，Dai 等首先制備

了具有生物相容性的聚乙二醇功能化的石墨烯, 使石墨烯具有很好的水溶性, 并且能夠在血漿等生理環境下保持穩定分散;然后利用 π-π 相互作用首次成功地將抗腫瘤藥物喜樹堿衍生物(SN38)負載到石墨烯上，得到nGO-PEG-SN38表現出殺死癌細胞的能力比水溶性前藥CPT11強很多。石墨烯的很好的載藥能力已被其他工作組在他們各自的領域證實了，為了能夠靶向傳遞藥物到特定類型的細胞，Dai等在另一個相關的工作中，將nGO-PEG與anti-CD20抗體結合，然后再與能夠選擇性殺死B淋巴細胞的藥物DOX結合，這樣就實現了藥物在體內的靶向輸送。葉酸也被其他的工作組作為另一種靶向傳遞藥物的靶向配合體。

（2）Zhang等發現磺酸修飾GO后再與葉酸結合，可特別地靶向作用于葉酸受體細胞。有趣的是，兩種藥物分子DOX和CPT一起負載在GO上，實現了在劑量依賴下協同殺死癌細胞的作用[30]。

（3）Shi等闡明PEG修飾的GO將妨礙藥物從NGO-PEG中釋放，他們將PEG與GO通過二硫鍵鍵合，由于二硫鍵在還原性的環境中容易斷裂，用這種材料負載藥物DOX，會使DOX在藥物傳遞系統中的釋放有很大的提高，在體外的治療效果也會提高[31]。

（4）2009年，Yang等將GO-IONP納米復合材料作為DOX藥物載體，此藥物為pH敏感型控制釋放[23]，后來這個工作組利用GO-IONP具有磁性的優勢將其作為雙重靶向傳遞系統，并將其與葉酸結合[24]。

（5）Liu等將GO-IONP用在光熱療法中，再用PEG功能化GO-IONP，得到GO-IONP-PEG，使其生理穩定性提高且具有生物相容性。并且由其體外細胞實驗證實，這種材料用于磁共振靶向藥物傳遞和光熱治療癌癥。參考文獻

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graphene

oxide

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